個展 『Escape』開催のお知らせ

東京写真月間2018

藤巻瞬 個展

「Escape」

【会場】

MUSEE F

【会期】

2018.5.21(mon)-5.26(sat)

12:00-19:00(最終日17:00)

この現実に存在するものは素敵なものばかりではない。現実に起きていることから目を背けたくなり、別の世界に逃げ込みたいと思いこの作品を作ろうと思った。街中で写真を撮り、コンピューター上でその写真をネガに変えるということをした。ネガは明暗、色彩が反転する。現実から撮ってきたものではあるが、現実では見ることのない世界だった。カラー写真、モノクロ写真、そこに平行してネガがある。このネガの世界に何かここにはないものを期待してしまっているのかもしれない。もしかするとそこは今、自分のいるここよりも素敵なところなのではないだろうかと考えた。そんな世界があって行けるなら、今いるここから逃げ出したい。

【HP】

表参道画廊+MUSEE F

http://www.omotesando-garo.com/select.html‬

TOKYO ART BEAT

http://www.tokyoartbeat.com/event/2018/7764

和光大学HP

https://www.wako.ac.jp/blog/index_univ/5239.html‬

和光大学芸術学科HP

http://www.wako.ac.jp/art/i/?p=9775‬